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一种铝铜合金微弧氧化膜层制备方法

本发明涉及铝铜合金表面处理领域。所要解决的技术问题是提供一种铝铜合金微弧氧化膜层制备方法,能解决将微弧氧化实际应用于铝铜合金的生产制备中的问题。其特征是,采用特制的电解液组合物制备微弧氧化膜层,通过控制电参数、电解液组合物体系和加工时间等工艺参数之间的配比,能有效地改变生成膜层的性能。本发明的优点是,电解液组合物来源丰富、环保,易于配比;制备膜层的工艺过程简单,易于操作和控制,制得的膜层耐腐蚀性优异。
专利类型: 发明专利
申请(专利)号: CN200910197521.X
申请日期: 2009年10月22日
公开(公告)日: 2011年5月4日
公开(公告)号: CN102041538A
主分类号: C25D11/04,C25D11/00,C,C25,C25D,C25D11
分类号: C25D11/04,C25D11/00,C,C25,C25D,C25D11
申请(专利权)人: 上海航天精密机械研究所
发明(设计)人: 陈斌,侯正全,崔恩强,邱立新,李宝辉
主申请人地址: 201600 上海市松江区贵德路1号
专利代理机构: 上海航天局专利中心 31107
代理人: 金家山
国别省市代码: 上海;31
主权项: 一种铝铜合金微弧氧化膜层制备方法,包括将铝铜合金工件表面进行除油、清洗、晾干、氧化、再清洗、再晾干、封孔、测试检测的步骤,其特征在于:所述氧化步骤为微弧氧化,即将待氧化的铝铜合金工件浸泡在电解液组合物中通过电极放电氧化;所述电解液组合物由以下浓度的组分组成:氢氧化钾即KOH浓度为0.5g/L~2.0g/L,铝酸钠即NaAlO2浓度为0~4.0g/L,硅酸钠即Na2SiO3浓度为0~6.0g/L,六聚偏磷酸钠即(NaPO4)6浓度为0~1.0g/L,四硼酸钠即Na2B4O7·10H2O浓度为0~1.0g/L。
法律状态: 公开 , 实质审查的生效 , 发明专利申请公布后的视为撤回 , 发明专利申请公布后的视为撤回 ,

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