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首页 > 一种铝铜合金微弧氧化膜层制备方法
一种铝铜合金微弧氧化膜层制备方法
本发明涉及铝铜合金表面处理领域。所要解决的技术问题是提供一种铝铜合金微弧氧化膜层制备方法，能解决将微弧氧化实际应用于铝铜合金的生产制备中的问题。其特征是，采用特制的电解液组合物制备微弧氧化膜层，通过控制电参数、电解液组合物体系和加工时间等工艺参数之间的配比，能有效地改变生成膜层的性能。本发明的优点是，电解液组合物来源丰富、环保，易于配比；制备膜层的工艺过程简单，易于操作和控制，制得的膜层耐腐蚀性优异。
| 专利类型： | 发明专利 |
|---|---|
| 申请（专利）号： | CN200910197521.X |
| 申请日期： | 2009年10月22日 |
| 公开(公告)日： | 2011年5月4日 |
| 公开(公告)号： | CN102041538A |
| 主分类号： | C25D11/04,C25D11/00,C,C25,C25D,C25D11 |
| 分类号： | C25D11/04,C25D11/00,C,C25,C25D,C25D11 |
| 申请（专利权）人： | 上海航天精密机械研究所 |
| 发明（设计）人： | 陈斌,侯正全,崔恩强,邱立新,李宝辉 |
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京公网安备11010802020237号