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一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法

本发明属于电化学表面处理技术领域,具体是在具有窄环平面结构的工具钢表面制备耐磨密封性厚铬层的工艺方法。辅助阴极不仅具有遮蔽非镀覆面的功能,同时提高镀了层厚度均匀,镀铬过程中采用阶梯给电的方式,即将镀铬电流从0逐步给定至计算值,控制槽液温度、镀铬电流密度和阴阳极之间的距离,镀层硬度值保持在HV700~HV800之间且表面无裂纹,使其具有较高的硬度、优良的耐磨性及良好的密封性。
专利类型: 发明专利
申请(专利)号: CN202110653561.1
申请日期: 2021年6月11日
公开(公告)日: 2021年10月15日
公开(公告)号: CN113502511A
主分类号: C25D3/04,C,C25,C25D,C25D3
分类号: C25D3/04,C25D5/00,C25D17/10,C25D21/12,C,C25,C25D,C25D3,C25D5,C25D17,C25D21,C25D3/04,C25D5/00,C25D17/10,C25D21/12
申请(专利权)人: 西安航天发动机有限公司
发明(设计)人: 薛露平,杨战争,刘兴斌,叶晖,张万欣
主申请人地址: 710100 陕西省西安市雁塔区航天基地神舟二路69号
专利代理机构: 中国航天科技专利中心
代理人: 张丽娜
国别省市代码: 陕西;61
主权项: 1.一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于该方法的步骤包括: 第一步,制备辅助阴极A、辅助阴极B和辅助阴极C,辅助阴极A为内表面带有台阶的圆环结构,即辅助阴极A的内表面形成台阶,辅助阴极A的内径与待镀覆的窄环平面结构的外径相匹配,辅助阴极A能够套在待镀覆的窄环平面结构的外面,辅助阴极B为台阶形的实心圆柱,大圆柱外径与待镀覆的窄环平面结构的内径相匹配,小圆柱外径与辅助阴极C内径相匹配,辅助阴极C为圆环结构,外径与待镀覆的窄环平面结构的内径相匹配; 第二步,清洗待镀覆的窄环平面结构的外表面; 第三步,对第二步清洗后的待镀覆的窄环平面结构进行热处理以消除应力; 第四步,使用第一步制备的辅助阴极A、辅助阴极B和辅助阴极C装挂待镀覆的窄环平面结构,装挂时,将待镀覆的窄环平面结构放置到辅助阴极A内表面的台阶上得到第一组合体,将辅助阴极C放置到辅助阴极B小圆柱面上得到第二组合体,然后再将第二组合体放置到第一组合体的中心,得到装挂组合体; 第五步,将第四步得到的装挂组合体进行活化处理; 第六步,在第五步活化处理后的装挂组合体表面进行镀覆铬层; 镀覆铬层时电流值为:定义电流密度乘以镀覆铬层的面积得到的乘积为S,电流密度为40-45A/dm2,阴阳极距离不小于300mm; 第0min-第1min,电流值为从0开始至10%S-12%S; 第1min-第2min,电流值升至20%S-22%S; 第2min-第3min,电流值升至40%S-42%S; 第3min-第4min,电流值升至70S-72%%S; 第4min-第5min,电流值升至100%S; 第七步,去除辅助阴极A、辅助阴极B和辅助阴极C,然后进行热处理,得到带有铬镀层的窄环平面结构。 2.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 所述的第一步中,制备的辅助阴极A和辅助阴极B的材质与待镀覆的窄环平面结构的材质相同,辅助阴极C为绝缘材料。 3.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第二步中,清洗待镀覆的窄环平面结构的外表面时,根据零件表面油污情况,选有机溶剂除油、化学除油之一进行除油或采用组合方式进行除油。 4.根据权利要求3所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于:有机溶剂除油的溶剂有:航空洗涤汽油、酒精或其它有机溶剂。 5.根据权利要求3所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 化学除油采用由氢氧化钠、碳酸钠、磷酸钠和硅酸钠组成的60℃~90℃的碱性溶液。 6.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第三步中,热处理温度为190-210℃,处理时间为22-26h。 7.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第五步中,活化处理的溶剂为硫酸,硫酸浓度为30-50g/L,活化处理的温度为室温,活化处理的时间为0.5-1min。 8.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第六步中,镀覆铬层时的温度为59-61℃。 9.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第七步中,对带有铬镀层的窄环平面结构进行热处理的温度为190-210℃,处理时间为22-26h。
法律状态: 公开 ,

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