首页 > 一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法
专利类型: | 发明专利 |
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申请(专利)号: | CN202110653561.1 |
申请日期: | 2021年6月11日 |
公开(公告)日: | 2021年10月15日 |
公开(公告)号: | CN113502511A |
主分类号: | C25D3/04,C,C25,C25D,C25D3 |
分类号: | C25D3/04,C25D5/00,C25D17/10,C25D21/12,C,C25,C25D,C25D3,C25D5,C25D17,C25D21,C25D3/04,C25D5/00,C25D17/10,C25D21/12 |
申请(专利权)人: | 西安航天发动机有限公司 |
发明(设计)人: | 薛露平,杨战争,刘兴斌,叶晖,张万欣 |
主申请人地址: | 710100 陕西省西安市雁塔区航天基地神舟二路69号 |
专利代理机构: | 中国航天科技专利中心 |
代理人: | 张丽娜 |
国别省市代码: | 陕西;61 |
主权项: | 1.一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于该方法的步骤包括: 第一步,制备辅助阴极A、辅助阴极B和辅助阴极C,辅助阴极A为内表面带有台阶的圆环结构,即辅助阴极A的内表面形成台阶,辅助阴极A的内径与待镀覆的窄环平面结构的外径相匹配,辅助阴极A能够套在待镀覆的窄环平面结构的外面,辅助阴极B为台阶形的实心圆柱,大圆柱外径与待镀覆的窄环平面结构的内径相匹配,小圆柱外径与辅助阴极C内径相匹配,辅助阴极C为圆环结构,外径与待镀覆的窄环平面结构的内径相匹配; 第二步,清洗待镀覆的窄环平面结构的外表面; 第三步,对第二步清洗后的待镀覆的窄环平面结构进行热处理以消除应力; 第四步,使用第一步制备的辅助阴极A、辅助阴极B和辅助阴极C装挂待镀覆的窄环平面结构,装挂时,将待镀覆的窄环平面结构放置到辅助阴极A内表面的台阶上得到第一组合体,将辅助阴极C放置到辅助阴极B小圆柱面上得到第二组合体,然后再将第二组合体放置到第一组合体的中心,得到装挂组合体; 第五步,将第四步得到的装挂组合体进行活化处理; 第六步,在第五步活化处理后的装挂组合体表面进行镀覆铬层; 镀覆铬层时电流值为:定义电流密度乘以镀覆铬层的面积得到的乘积为S,电流密度为40-45A/dm2,阴阳极距离不小于300mm; 第0min-第1min,电流值为从0开始至10%S-12%S; 第1min-第2min,电流值升至20%S-22%S; 第2min-第3min,电流值升至40%S-42%S; 第3min-第4min,电流值升至70S-72%%S; 第4min-第5min,电流值升至100%S; 第七步,去除辅助阴极A、辅助阴极B和辅助阴极C,然后进行热处理,得到带有铬镀层的窄环平面结构。 2.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 所述的第一步中,制备的辅助阴极A和辅助阴极B的材质与待镀覆的窄环平面结构的材质相同,辅助阴极C为绝缘材料。 3.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第二步中,清洗待镀覆的窄环平面结构的外表面时,根据零件表面油污情况,选有机溶剂除油、化学除油之一进行除油或采用组合方式进行除油。 4.根据权利要求3所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于:有机溶剂除油的溶剂有:航空洗涤汽油、酒精或其它有机溶剂。 5.根据权利要求3所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 化学除油采用由氢氧化钠、碳酸钠、磷酸钠和硅酸钠组成的60℃~90℃的碱性溶液。 6.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第三步中,热处理温度为190-210℃,处理时间为22-26h。 7.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第五步中,活化处理的溶剂为硫酸,硫酸浓度为30-50g/L,活化处理的温度为室温,活化处理的时间为0.5-1min。 8.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第六步中,镀覆铬层时的温度为59-61℃。 9.根据权利要求1所述的一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法,其特征在于: 第七步中,对带有铬镀层的窄环平面结构进行热处理的温度为190-210℃,处理时间为22-26h。 |
法律状态: | 公开 , |